【2020年申請(qǐng)專利的十大誤區(qū)你入坑了嗎】專利申請(qǐng)是技術(shù)成果保護(hù)的重要手段，也是獲得專利權(quán)的必然程序。隨著近幾年國(guó)家對(duì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)的重視，不少企業(yè)對(duì)專利在提升核心競(jìng)爭(zhēng)力方面的作用有了進(jìn)一步的認(rèn)識(shí)，于是紛紛加強(qiáng)了專利申請(qǐng)工作，我國(guó)的年度專利申請(qǐng)量也幅度增加。

　　但是同時(shí)依然有許多問(wèn)題發(fā)生，究其原因，往往還是因?yàn)閷＠暾?qǐng)是一項(xiàng)高度專業(yè)又過(guò)程復(fù)雜的工作，而不少企業(yè)在專利申請(qǐng)過(guò)程中，不管是對(duì)專利本身還是對(duì)各項(xiàng)專利制度的理解均存在誤區(qū)，因此想要提高專利授權(quán)率，這些誤區(qū)首先需要得到改進(jìn)。

　　本篇文章來(lái)給大家分析一下申請(qǐng)專利的十大誤區(qū)都有哪些

　　誤區(qū)1：自主研發(fā)的成果不申請(qǐng)專利就有知識(shí)產(chǎn)權(quán)。

　　一些技術(shù)人員認(rèn)為只要是自主創(chuàng)新，就有了自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)。其實(shí)不然，專利是一種壟斷權(quán)，自主研發(fā)的技術(shù)成果如果不申請(qǐng)專利，就得不到法律確認(rèn)和保護(hù)。

　　當(dāng)他人盜用其研究成果時(shí)，因研發(fā)者對(duì)成果不具有專利權(quán)，得不到法律保護(hù)，就無(wú)法追究盜用者的法律責(zé)任。同時(shí)，在我國(guó)，專利申請(qǐng)采用的是先申請(qǐng)?jiān)瓌t，具有創(chuàng)造性、新穎性和實(shí)用性的發(fā)明創(chuàng)造誰(shuí)先申請(qǐng)了，專利就授予誰(shuí)。

　　因此，研發(fā)者如不及時(shí)申請(qǐng)，而被他人搶先申請(qǐng)并被授予專利權(quán)，研發(fā)者就無(wú)法追究他人的法律責(zé)任。這樣的案例在中國(guó)可以說(shuō)是數(shù)不勝數(shù)。

　　誤區(qū)2：產(chǎn)品投入大規(guī)模生產(chǎn)后才申請(qǐng)專利。

　　在與發(fā)明人就申請(qǐng)專利的技術(shù)內(nèi)容進(jìn)行交流時(shí)，他們中有很多人都有這樣的想法：這一技術(shù)方案還未投入生產(chǎn)，也沒(méi)有產(chǎn)品問(wèn)世，此時(shí)申請(qǐng)專利是為時(shí)過(guò)早，等產(chǎn)品大規(guī)模投入生產(chǎn)后再申請(qǐng)專利更合適。

　　殊不知，這時(shí)已經(jīng)晚了，即使你僥幸獲得授權(quán)，專利也處在不穩(wěn)定狀態(tài)之中。此時(shí)如果你發(fā)現(xiàn)有人侵權(quán)并提起訴訟，侵權(quán)人則會(huì)以專利申請(qǐng)之日技術(shù)已經(jīng)被公開(kāi)為由進(jìn)行抗辯。

　　你不但打不嬴官司，而且以前為申請(qǐng)專利所花費(fèi)的精力、時(shí)間、金錢統(tǒng)統(tǒng)付之東流。專利申請(qǐng)的基礎(chǔ)不是已經(jīng)在市場(chǎng)上存在的產(chǎn)品，也不一定是已經(jīng)成型的產(chǎn)品。只要有了切實(shí)可行的想法，就可以著手申請(qǐng)文件的撰寫了。

　　誤區(qū)3：專利產(chǎn)品的改進(jìn)不需再申請(qǐng)專利。

　　有部分發(fā)明人認(rèn)為申請(qǐng)了一項(xiàng)專利后，就可“高枕無(wú)憂”，從而忽視了后期的繼續(xù)研發(fā)工作，即使開(kāi)發(fā)出了新產(chǎn)品或有了新改進(jìn)，也不再申請(qǐng)專利。這種錯(cuò)誤認(rèn)識(shí)的后果不異于未申請(qǐng)專利。

　　因?yàn)楫?dāng)他人對(duì)該產(chǎn)品有了改進(jìn)并申請(qǐng)了專利，反過(guò)來(lái)就限制了原專利權(quán)人產(chǎn)品的更新?lián)Q代，這就會(huì)導(dǎo)致原專利權(quán)人不經(jīng)意間反而變成了侵權(quán)人。此時(shí)，原專利權(quán)人就喪失了自己的知識(shí)產(chǎn)權(quán)。

　　誤區(qū)4：一項(xiàng)技術(shù)成果只能申請(qǐng)一類專利。

　　有部分發(fā)明人認(rèn)為一項(xiàng)技術(shù)成果一次只能申請(qǐng)一類專利，即只能申請(qǐng)發(fā)明專利或只能申請(qǐng)實(shí)用新型專利或者只能申請(qǐng)外觀設(shè)計(jì)專利。

　　我國(guó)專利法規(guī)定的專利類型有三類：發(fā)明專利、實(shí)用新型專利及外觀設(shè)計(jì)專利，一項(xiàng)產(chǎn)品發(fā)明可同時(shí)申請(qǐng)多種專利，技術(shù)方案也可以同時(shí)申請(qǐng)實(shí)用新型和發(fā)明專利。

　　從近兩年的審查情況看，實(shí)用新型專利通常4-7個(gè)月左右即可授權(quán);發(fā)明專利則需1年多。因此，對(duì)于一些重要的產(chǎn)品發(fā)明，若發(fā)明人只申請(qǐng)了發(fā)明專利，而此時(shí)他人“雙管齊下”，同時(shí)申請(qǐng)發(fā)明專利和實(shí)用新型專利，那么他將先獲得實(shí)用新型專利，擁有了產(chǎn)品的專利權(quán)。發(fā)明人若使用該產(chǎn)品，反而構(gòu)成了侵權(quán)。

　　誤區(qū)5：得到了專利證書(shū)就獲得了有效的專利權(quán)。

　　這是多數(shù)專利權(quán)人的普遍認(rèn)識(shí)誤區(qū)。在我國(guó)，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局對(duì)實(shí)用新型和外觀設(shè)計(jì)專利不進(jìn)行實(shí)質(zhì)審查，即使在你申請(qǐng)之前已經(jīng)有人就相同的技術(shù)方案申請(qǐng)過(guò)相同的專利，你的申請(qǐng)仍可能會(huì)被批準(zhǔn)。

　　如果沒(méi)有人提出異議，你的專利權(quán)會(huì)維持下去。一旦有人對(duì)你的專利提出無(wú)效宣告，那么你的專利會(huì)百分之百地被無(wú)效掉，也就是說(shuō)你并沒(méi)有取得有效的專利權(quán)。

　　就發(fā)明專利而言，雖然國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局對(duì)它進(jìn)行過(guò)實(shí)質(zhì)審查，但誰(shuí)也不能保證發(fā)明專利審查部門對(duì)世界范圍內(nèi)所有相關(guān)的文獻(xiàn)資料都檢索過(guò)。所以得到專利證書(shū)，并不代表你的專利是真正有效的專利，只是代表國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)行政機(jī)關(guān)對(duì)該專利申請(qǐng)的批準(zhǔn)。

　　只有在你的專利有效期內(nèi)沒(méi)有人對(duì)你的專利提出無(wú)效宣告或者有人提出無(wú)效宣告但復(fù)審委員會(huì)經(jīng)過(guò)復(fù)審后維持了你的專利權(quán)，此時(shí)你的專利才是真正有效的專利。

　　誤區(qū)6：技術(shù)方案交待不清楚。

　　很多單位的發(fā)明人提交的專利申請(qǐng)文件非常簡(jiǎn)單，有的甚至只有幾句話，技術(shù)方案完全沒(méi)有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請(qǐng)文件帶來(lái)很大困難。

　　要求發(fā)明人提供更多的技術(shù)方案時(shí)，他們會(huì)以技術(shù)保密為由回避，表明這些發(fā)明人沒(méi)有把握好保密與公開(kāi)的度。他們只是一味要求保密，害怕多透露一點(diǎn)技術(shù)信息，而恰恰忽視了公開(kāi)不充分的問(wèn)題。

　　大量的案例表明，如果一件專利申請(qǐng)被審查員以技術(shù)方案公開(kāi)不充分為由而發(fā)出審查意見(jiàn)通知書(shū)，則這件專利申請(qǐng)有98%的可能被駁回。這一點(diǎn)希望引起發(fā)明人的高度重視。

　　誤區(qū)7：專利申請(qǐng)前不做任何檢索。

　　有些發(fā)明人提交的專利申請(qǐng)文件沒(méi)有做查新檢索，對(duì)技術(shù)方案的新穎性如何不確定，根本不知道其技術(shù)方案有沒(méi)有公開(kāi)過(guò)或公開(kāi)使用過(guò)，這也是我國(guó)技術(shù)人員的通病——信息檢索和收集信息的能力極低。

　　就公開(kāi)而言，全世界范圍內(nèi)的任何文獻(xiàn)都可影響技術(shù)方案的新穎性。就公開(kāi)使用而言，只有國(guó)內(nèi)的使用才影響技術(shù)方案的新穎性。也就是說(shuō)，國(guó)外已經(jīng)普遍使用過(guò)的東西，如果國(guó)內(nèi)沒(méi)有出現(xiàn)，各種文獻(xiàn)也沒(méi)有相關(guān)記載，那你就可以申請(qǐng)專利。

　　如果他人已經(jīng)就某一技術(shù)方案申請(qǐng)過(guò)專利或者在相關(guān)文獻(xiàn)中公開(kāi)，你沒(méi)有做檢索也去就這一技術(shù)方案申請(qǐng)專利，那只能是白白浪費(fèi)時(shí)間、金錢和精力了。

　　誤區(qū)8：先發(fā)表論文或成果鑒定再申請(qǐng)專利。

　　有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒(méi)有想到先申請(qǐng)專利保護(hù)。

　　因?yàn)榘l(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開(kāi)技術(shù)內(nèi)容，使專利申請(qǐng)失去新穎性而得不到保護(hù)。

　　誤區(qū)9：對(duì)專利缺乏有效的管理。

　　有些企業(yè)申請(qǐng)了很多專利，但無(wú)專人管理。專利文件之間有的互相沖突，有的已無(wú)市場(chǎng)價(jià)值還在交納年費(fèi)。有的專利權(quán)已經(jīng)遭受侵犯但企業(yè)管理者對(duì)專利特征不了解，不能及時(shí)提起訴訟，還有的則是專利文書(shū)撰寫的申請(qǐng)質(zhì)量差，不能起到應(yīng)該有的保護(hù)作用。

　　誤區(qū)10：缺乏長(zhǎng)遠(yuǎn)的專利戰(zhàn)略規(guī)劃。

　　有計(jì)劃地實(shí)施專利戰(zhàn)略對(duì)企業(yè)來(lái)說(shuō)非常重要。首先，可以避免時(shí)間和精力的浪費(fèi)。一些企業(yè)毫無(wú)目的的申請(qǐng)大量專利，結(jié)果導(dǎo)致授權(quán)率低，并產(chǎn)生大量的垃圾專利，浪費(fèi)時(shí)間和精力。

　　其次，可以突破國(guó)外企業(yè)的專利包圍。一個(gè)企業(yè)應(yīng)該對(duì)自己行業(yè)內(nèi)的基本專利狀況及外圍專利狀況有十分明確的認(rèn)識(shí)，只有這樣才能找到技術(shù)突破口，排除他人專利障礙，確立自己的專利優(yōu)勢(shì)，從而贏得市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)。

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